第319章 光刻机魔改一下？ (第1/2页)

2003年1月2号在信息产业部会议室里的这场大戏，直到多年后仍然时不时被与会的一些科研大佬提起。
　　
　　这是顾松第一次在燧石研究院以外显露本领。
　　
　　韩经纬是真的服了，再不怀疑倪光北的说法。
　　
　　顾松答完第三个问题之后，就停止了这个“游戏”。他很干脆地说“足够了吧大家觉得我是狂妄也行，我需要对结果负责，我选择相信我自己。”
　　
　　一个个人，老的少的男的女的，都神情复杂。
　　
　　不是觉得你狂妄，是真有点狂妄啊。
　　
　　可是不服气也不行啊。看那3个提了问题的人一脸兴奋的样子，就知道这小子简直不是人。
　　
　　顾松揉着太阳穴“这一搞，又浪费了一个小时时间。对于芯火科技的设备引进，就真的没有思路和办法了吗”
　　
　　刚才密集地进入意识空间，冲击还是挺大的。
　　
　　关键是大佬们的提问不好回答，又不是准备很充分的领域。
　　
　　见顾松有提起这个问题，章儒京问道“能在12寸晶圆上工作的初代光刻机，和现在最新的型号在制程工艺上都有充分可挖掘的空间。顾总如果有办法让这个型号的光刻机发挥出最高的效能出来，应该也能满足工艺的需要。”
　　
　　顾松心中一动。
　　
　　好像可以魔改一下嘞
　　
　　已经过去的2002年，湾积电那边的林木坚才刚提出浸润式光刻的概念，还没有得到普遍认同。英特尔还在吭哧吭哧地往157纳米波长的光刻机里砸钱，但用193纳米波长的光刻机加上浸润式光刻技术，可以实现134纳米的波长，比157纳米的极限还高。
　　
　　这样一来还搞毛的157纳米波长光刻机
　　
　　英特尔被迫掉了个头，而湾积电也成功七级跳，一举成为最大的巨头之一。
　　
　　现在这个时间点大家都还在研究嘞，第一台浸润式光刻机还没研发成功来着。
　　
　　现在研发牛逼的光刻机来不及，魔改一下可以试试
　　
　　虽然以现在国内的制造工艺水平，可能根本搞不定。但是外挂都开到这种程度了，不需要再过于小心翼翼了吧
　　
　　在章儒京眼中，顾松是扶着额头在思考。
　　
　　但其实他已经又咬咬牙，钻到意识空间里去了。
　　
　　在里面，一呆又是将近半个小时。
　　
　　“193纳米波长的干式光刻机，实现浸润式光刻的改造方案制造工艺水平要求最低的改造方案”
　　
　　人工智能谢茵然有宕机的迹象。
　　
　　立体投影里出现一堆图形和数据。
　　
　　“基于哪一个型号的光刻机进行改造”
　　
　　面对谢茵然的疑问，顾松果断地指了指其中的两台。一台是刚才章儒京说能搞到的最好的，一台是次先进的。
　　
　　接下来，顾松就在里面等着改造方案。
　　
　　虽然让沪海微电子装备现在直接研制国产光刻机难度大到没边，但自己这边有整套方案的话，让他们协助着魔改一下，可是可以预期的。
　　
　　如果这样一来，相当于把制程水平可以往上拔至少2到3个时代啊。
　　
　　如果真能实现的话8寸晶圆生产线上做出来的产品，竞争力也大到足够啊。
　　
　　是不是干脆就把章儒京的一条生产线魔改一下呢
　　
　　

（本章未完，请点击下一页继续阅读）